AI技术的飞速发展正重塑半导体产业的需求逻辑,而半导体设备作为这条产业链上的“卖铲子”环节,正迎来确定性爆发。
2025年,存储市场涨价潮贯穿全年,HBM与DDR5需求集中爆发,全球行业巨头扩产,半导体设备市场直接坐上了需求增长的“快车”。国际半导体产业协会(SEMI)报告预测,2025年全球半导体设备销售额将达到1330亿美元,同比增长13.7%,未来两年将继续增长。
从细分领域看,晶圆制造设备(WFE)领域2024年创下1040亿美元销售额纪录后,预计2025年将增长11.0%。这一增长主要得益于AI相关投资的推动,尤其是在尖端逻辑电路、存储器及先进封装技术的应用方面。
全球存储厂商的扩产与技术升级,正成为拉动半导体设备需求的核心引擎。国内方面,长鑫招股书显示,其募集资金将重点投向存储器晶圆制造量产线技术升级改造等项目,有望直接带动半导体设备市场需求增长。
存储芯片的进化史是一部“空间争夺战”,从2D平面到3D堆叠,对半导体设备提出了颠覆性要求。其中,3D NAND扩产和DRAM技术演进对刻蚀/沉积设备需求激增,HBM扩产则提升光刻、ALD、混合键合等设备需求。
3D NAND/DRAM刻蚀、沉积设备需求激增
刻蚀设备如半导体制造的“精密雕刻刀”,在3D NAND制造工艺中需求激增。以某技术路线为例,随着堆叠层数增加,刻蚀设备使用量占比不断攀升。SEMI预测,2026-2028年间全球存储领域设备支出将达1360亿美元,其中3D NAND相关投资占比超40%。
薄膜沉积方面,3D NAND层数越多,沉积步骤越多,对沉积设备需求同步爆发。ALD设备在3D堆叠结构的NAND Flash工艺中需求占比增加。
HBM对光刻、ALD、键合设备需求陡增
HBM通过TSV技术形成高密度存储单元,对光刻设备及混合键合设备提出更高要求。EUV光刻在DRAM和HBM领域应用广泛,混合键合设备是HBM制造过程中的关键。
伴随存储芯片技术快速迭代,刻蚀、薄膜沉积、混合键合等核心设备需求持续爆发。国内厂商如中微公司、北方华创、屹唐半导体等在刻蚀设备领域取得重要进展;薄膜沉积设备领域涌现了北方华创、拓荆科技等一批制造商;键合设备方面,国内厂商在混合键合领域取得明显进展。
在国产化浪潮与政策扶持双重驱动下,国内设备企业正逐步打破国际垄断,实现从技术突破到量产应用的跨越。
本文由主机测评网于2026-06-10发表在主机测评网_免费VPS_免费云服务器_免费独立服务器,如有疑问,请联系我们。
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